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原标题：清华提出震撼世人的EUV光刻厂方案，一文汇总有关信息和论文
文章来源：人工智能学家
内容字数：6237字
内容摘要：来 源：综合自铁军哥、平原公子、海内人物转 自：电子技术应用ChinaAET是说芯语”已陪伴您1703天EUV（Extreme Ultraviolet）光刻机是制造芯片的关键设备之一，它的光源技术一直是制约其商业化应用的重要因素，成为中国EUV光刻机发展的瓶颈问题。EUV光源技术具有极苛刻的要求，需要使用波长仅为13.5纳米的极紫外光源，极紫外光源需要高功率激光与某种材料相互作用，需要解决材料的选…
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作者简介：致力成为权威的人工智能科技媒体和前沿科技研究机构
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